超純水設(shè)備

超純水處理流程

滿足超純水過程對原水的要求，必須對原水進行處理，預(yù)處理-兩級反滲透，主要對象是水中的懸浮物、微生物、膠體、有機物、重金屬、游離狀態(tài)的余氯、溶解鹽類、膠體、微生物、有機物等去除，電導(dǎo)率(包括C2)：<40μS/m，氧化硅(SiO2)：<1 mg/L，鐵、錳、硫化物；0.01mg/L，總氯(以C12計)：0.02mg/L，總硬度(以CaCO3計)：< 1.0 mg/1，溶解的有機物(TOC,以C計)：<0.5mg/L，運行pH值范圍運行溫度：5-45℃，進水壓力：7bar

超純水的工作原理

系統(tǒng)具有去離子室的基離子室包含離子交換樹脂,填充在陽離子交換膜和陰離子交換膜之有離通過膜,而水被阻擋。當(dāng)流體進入充滿樹脂的稀釋室時離子被混合床樹料流中清除。在施加件堆棧上的強直流場的影響下,帶電粒子從樹脂中拉出并被拉向相反電荷的電極。以這種方些帶電的強離子物質(zhì)被連續(xù)去除并轉(zhuǎn)移到相鄰的濃縮室離子向膜移極。它們有相同荷的樹脂的連續(xù)膜阻擋。隨著強離去除,流的電導(dǎo)率變得非常低。施加的強大勢在樹脂珠粒氫氧根離些充當(dāng)離子交換樹脂的連續(xù)再生些再生樹離中性或弱電離的水性物如二氧化碳或二氧化離之后是通流電和離子交換膜去除。

最近幾年ED去離子在各個工業(yè)領(lǐng)域都越來越受重視,許多工業(yè)系統(tǒng)開始采用電去離子作為其水處理系統(tǒng)的更新?lián)Q代技術(shù),如電力工業(yè)、制藥工業(yè)、微電子工業(yè)、電鍍與金屬表面處理等

電力工業(yè)據(jù)推算電力行業(yè)水處理單元的操作費用約占電力成本的10%,而用電去離子代離子交換樹脂可以使每處理1000加侖水的成本由美元降至1.75美元。

制藥工業(yè)雖然藥用水的特點是并不要求很高的去離子程度,但電去離子系統(tǒng)具有同時去鹽和控制微生物指標(biāo)的特點。

電子工業(yè)電子工業(yè)對水質(zhì)的要求極高,水電阻率要穩(wěn)定的大于18MQ而ED出水一般在15-17M左右,因此在電子級水的生產(chǎn)過程多采用ED+拋光樹脂系統(tǒng),即在EDI之后加離子交換,此工程雖然仍需離子交換,但由于EDI已除去了大部分離子,拋光樹脂幾乎不用再生,因此水處理費用仍然很低

電鍵與金屬表面處理電去離子可用于電鍍廢水處理可以使水重復(fù)使用并回收重金屬離子。

其他領(lǐng)域ED去離子水設(shè)備在食品工業(yè)、化學(xué)工業(yè)等都有很廣泛的應(yīng)用。

 

適用場景

1.電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗電子管生產(chǎn)、電子管陰極涂數(shù)碳酸鹽配液、顯像管和陰極射線管生產(chǎn)配料用純水。

2.黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水。

3.液晶顯示器的生產(chǎn)、屏面需用純水清洗和用純水配液晶體管生產(chǎn)中主要用于清洗硅片,另有少量用于藥液配

4.集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片x半導(dǎo)體材料、器件、印剛電路板和集成電路。商子顯示屏。

5.LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏。

6.高品質(zhì)顯像管、螢光粉生產(chǎn)、半導(dǎo)體材料、晶元材料生產(chǎn)、加工、清洗。

7.超純材料和超純化學(xué)試劑、超純化工材料。

8.實驗室和中試車間汽車、家電表面拋光處理、光電產(chǎn)品、其他高科技精微產(chǎn)品。

9.生物醫(yī)藥、醫(yī)藥化工、生物制劑、臨床醫(yī)學(xué)。